ماسک های نانویی برای لیتوگرافی در صنعت نیمه هادی تولید می شود

یک شرکت ژاپنی با همکاری مرکز نوآوری نانوالکترونیک IMEC بلژیک در حال کار روی ارائه نسل بعدی ادوات لیتوگرافی است.

این همکاری راهبردی در مسیر تجاری سازی یکی از مؤلفه های اصلی سامانه های لیتوگرافی نیمه هادی با پرتوهای فرابنفش شدید (EUV) است.

- یک شرکت ژاپنی با همکاری مرکز نوآوری نانوالکترونیک IMEC بلژیک در حال کار روی ارائه نسل بعدی ادوات لیتوگرافی است.

این همکاری راهبردی در مسیر تجاری سازی یکی از مؤلفه های اصلی سامانه های لیتوگرافی نیمه هادی با پرتوهای فرابنفش شدید (EUV) است.

به گزارش ایسنا، در این پروژه مشترک قرار است روی غشاهای شفاف و نازک EUV تمرکز شود که نوعی ماسک EUV در برابر آلودگی است.

مشارکت شرکت Mitsui Chemicals ژاپن و IMEC بلژیک به گونه ای برنامه ریزی شده است که ماسک های مبتنی بر نانولوله های کربنی در بازه زمانی سال های 2025 تا 2026 به مرحله تجاری سازی برسند.

با افزایش نیاز به ایجاد محصولاتی با ابعاد کوچکتر و متراکم تر در مدارهای الکترونیکی، لیتوگرافی EUV به شدت مورد توجه شرکت ها قرار گرفته است.

بازار تجهیزات لیتوگرافی EUV تا حد زیادی در اختیار شرکت هلندی ASML است که ماشین آلات پیشرفته و پیچیده ای را تولید کرده و به فروش می رساند.